Aangepaste gevormde saffier optiese vensters saffierkomponente met presisiepolering

Kort beskrywing:

Pasgemaakte saffier optiese vensters verteenwoordig die toppunt van presisie optiese ingenieurswese, deur gebruik te maak van Czochralski-gekweekte monokristallyne Al₂O₃ met beheerde kristallografiese oriëntasie (tipies C-as of A-as) om werkverrigting vir spesifieke toepassings te optimaliseer. Ons eie kristalgroeiproses lewer materiaal met uitsonderlike homogeniteit (<5×10⁻⁶ brekingsindeksvariasie) en minimale insluitsels (<0.01 dpm), wat konsekwente optiese werkverrigting oor produksielotte verseker. Die vensters handhaaf merkwaardige omgewingsstabiliteit, met 'n CTE van 5.3×10⁻⁶/K parallel met die C-as, wat naatlose integrasie in multi-materiaal samestellings moontlik maak wat onderhewig is aan termiese siklusse. Ons gevorderde poleertegnieke bereik oppervlakruheid onder 0.5 nm RMS, wat krities is vir hoë-krag laser toepassings waar oppervlakdefekte skade kan veroorsaak.

As 'n vertikaal geïntegreerde vervaardiger bied XKH omvattende oplossings van materiaalsintese tot finale inspeksie:

Ontwerpondersteuning: Ons ingenieurspan bied DFM (Ontwerp vir Vervaardiging) analise met behulp van Zemax- en COMSOL-simulasies om venstergeometrie te optimaliseer vir spesifieke optiese/meganiese vereistes.

Prototiperingsdienste: Vinnige ommeswaai (<72 uur) vir konsepvalidering met behulp van ons interne CNC-slyp- en MRF-poleervermoëns.

Bedekkingsopsies: Pasgemaakte AR-bedekkings met duursaamheid wat MIL-C-675C-standaarde oorskry, insluitend:

Breëband (400-1100nm) <0.5% reflektiwiteit

VUV-geoptimaliseerd (193nm) met >92% transmissie

Geleidende ITO-bedekkings (100-1000Ω/vk) vir EMI-afskerming

Gehalteversekering: Volledige metrologie-suite, insluitend:

4D PhaseCam laserinterferometers vir λ/20 platheidverifikasie

FTIR-spektroskopie vir spektrale transmissiekartering

Outomatiese inspeksiestelsels vir 100% oppervlakdefekte-sifting

Stuur e-pos aan ons

Kenmerke

Tegniese parameters

Saffiervenster
Dimensie	8-400mm
Dimensionele toleransie	+0/-0.05mm
Oppervlakkwaliteit (kras en grawe)	40/20
Oppervlak akkuraatheid	λ/10per@633nm
Duidelike diafragma	＞85%,＞90%
Parallelisme-toleransie	±2''-±3''
Skuinste	0.1-0.3mm
Bedekking	AR/AF/op versoek van die kliënt

Belangrike kenmerke

1. Materiële Superioriteit

· Verbeterde Termiese Eienskappe: Vertoon termiese geleidingsvermoë van 35 W/m·K (teen 100°C), met 'n lae termiese uitbreidingskoëffisiënt (5.3×10⁻⁶/K) wat optiese vervorming voorkom onder vinnige temperatuursiklusse. Die materiaal behou strukturele integriteit selfs tydens termiese skok-oorgange van 1000°C na kamertemperatuur in sekondes.

· Chemiese stabiliteit: Toon geen degradasie wanneer dit vir lang tydperke aan gekonsentreerde sure (HF uitgesluit) en alkalieë (pH 1-14) blootgestel word nie, wat dit ideaal maak vir chemiese verwerkingstoerusting.

· Optiese Verfyning: Deur gevorderde C-as kristalgroei, bereik >85% transmissie in die sigbare spektrum (400-700nm) met verstrooiingsverliese onder 0.1%/cm.
· Opsionele hiper-hemisferiese polering verminder oppervlakrefleksies tot <0.2% per oppervlak teen 1064nm.

2. Presisie-ingenieursvermoëns

· Nanoskaal-oppervlakbeheer: Deur gebruik te maak van magnetorheologiese afwerking (MRF), word oppervlakruheid <0.3nm Ra bereik, wat krities is vir hoëkrag-lasertoepassings waar LIDT 10J/cm² oorskry teen 1064nm, 10ns pulse.

· Komplekse Geometrie Vervaardiging: Bevat 5-as ultrasoniese bewerking vir die skep van mikrofluidiese kanale (50μm breedte toleransie) en diffraktiewe optiese elemente (DOE) met <100nm kenmerkresolusie.

· Metrologie-integrasie: Kombineer witlig-interferometrie en atoomkragmikroskopie (AFM) vir 3D-oppervlakkarakterisering, wat vormakkuraatheid <100nm PV oor 200mm-substrate verseker.

Primêre Toepassings

1. Verbetering van verdedigingstelsels

· Hipersoniese Voertuigkoepels: Ontwerp om Mach 5+ aërotermiese ladings te weerstaan terwyl MWIR-transmissie vir soekerkoppe gehandhaaf word. Spesiale nanokomposiet randseëls voorkom delaminasie onder 15G vibrasiebelastings.

· Kwantumwaarnemingsplatforms: Ultra-lae dubbelbrekingsweergawes (<5nm/cm) maak presisie-magnetometrie in duikbootopsporingstelsels moontlik.

2. Industriële Prosesinnovasie

· Halfgeleier Ekstreme UV Litografie: Graad AA gepoleerde vensters met <0.01nm oppervlakruheid verminder EUV (13.5nm) verstrooiingsverliese in stapstelsels.

· Kernreaktormonitering: Neutron-deursigtige variante (Al₂O₃ isotopies gesuiwer) bied intydse visuele monitering in Gen IV-reaktorkerne.

3. Opkomende Tegnologie-integrasie

· Ruimtegebaseerde Optiese Kommunikasie: Stralingsverharde weergawes (na 1Mrad gamma-blootstelling) handhaaf >80% transmissie vir LEO-satellietlaser-kruisverbindings.

· Biofotonika-koppelvlakke: Bio-inerte oppervlakbehandelings maak implanteerbare Raman-spektroskopievensters vir deurlopende glukosemonitering moontlik.

4. Gevorderde Energiestelsels

· Fusion Reactor Diagnostics: Multi-layer geleidende bedekkings (ITO-AlN) bied beide plasma-besigtiging en EMI-afskerming in tokamak-installasies.

· Waterstofinfrastruktuur: Kriogeniese weergawes (getoets tot 20K) voorkom waterstofverbrossing in vloeibare H₂-bergingsvensters.

XKH Dienste en Voorsieningsvermoëns

1. Pasgemaakte Vervaardigingsdienste

· Tekeninggebaseerde aanpassing: Ondersteun nie-standaard ontwerpe (1 mm tot 300 mm afmetings), vinnige aflewering binne 20 dae en eerste prototipering binne 4 weke.

· Bedekkingsoplossings: Anti-refleksie (AR), anti-aangroei (AF), en golflengte-spesifieke bedekkings (UV/IR) om weerkaatsingsverliese te verminder.

· Presisiepolering en -toetsing: Atoomvlakpolering bereik ≤0.5 nm oppervlakruheid, met interferometrie wat λ/10-vlakheid verseker.

2. Voorsieningsketting en Tegniese Ondersteuning

· Vertikale Integrasie: Volledige prosesbeheer van kristalgroei (Czochralski-metode) tot sny, poleer en bedek, wat materiaalsuiwerheid (leemte-/grensvry) en bondelkonsekwentheid waarborg.

· Samewerking in die bedryf: Gesertifiseer deur lugvaartkontrakteurs; saam met CAS om superrooster-heterostrukture vir huishoudelike vervanging te ontwikkel.

3. Produkportefeulje en Logistiek

· Standaardvoorraad: 6-duim tot 12-duim waferformate; eenheidspryse van 43 tot 82 (grootte/bedekking-afhanklik), met versending op dieselfde dag.

· Tegniese konsultasie vir toepassingspesifieke ontwerpe (bv. trapvensters vir vakuumkamers, termieskokbestande strukture).