LiTaO3-wafel 2 duim-8 duim 10x10x0.5 mm 1sp 2sp vir 5G/6G-kommunikasie

Kort beskrywing:

LiTaO3-wafer (litiumtantalaatwafer), 'n sentrale materiaal in derdegenerasie-halfgeleiers en opto-elektronika, benut sy hoë Curie-temperatuur (610°C), breë deursigtigheidsreeks (0.4–5.0 μm), superieure piezo-elektriese koëffisiënt (d33 > 1 500 pC/N) en lae diëlektriese verlies (tanδ < 2%) om 5G-kommunikasie, fotoniese integrasie en kwantumtoestelle te revolusioneer. Deur gebruik te maak van gevorderde vervaardigingstegnologieë soos fisiese dampvervoer (PVT) en chemiese dampafsetting (CVD), verskaf XKH X/Y/Z-gesnyde, 42°Y-gesnyde en periodiek gepoleerde (PPLT) wafers in 2–8-duim formate, met oppervlakruheid (Ra) <0.5 nm en mikropypdigtheid <0.1 cm⁻². Ons dienste sluit Fe-doping, chemiese reduksie en Smart-Cut heterogene integrasie in, wat hoëprestasie-optiese filters, infrarooi-detektors en kwantumligbronne aanspreek. Hierdie materiaal dryf deurbrake in miniaturisering, hoëfrekwensie-werking en termiese stabiliteit aan, wat huishoudelike vervanging in kritieke tegnologieë versnel.


  • :
  • Kenmerke

    Tegniese parameters

    Naam Optiese-graad LiTaO3 Klanktafelvlak LiTaO3
    Aksiale Z-snit + / - 0.2 ° 36 ° Y-snit / 42 ° Y-snit / X-snit

    (+ / - 0.2 °)

    Deursnee 76.2mm + / - 0.3mm/

    100±0.2mm

    76.2mm + /-0.3mm

    100mm + /-0.3mm 0r 150±0.5mm

    Datumvlak 22mm + / - 2mm 22mm + /-2mm

    32mm + /-2mm

    Dikte 500um + /-5mm

    1000um + /-5mm

    500um + /-20mm

    350um + /-20mm

    TTV ≤ 10um ≤ 10um
    Curie-temperatuur 605 °C + / - 0.7 °C (DTA-metode) 605 °C + / -3 °C (DTA-metode)
    Oppervlakkwaliteit Dubbelsydige polering Dubbelsydige polering
    Afgeskuinste rande randafronding randafronding

     

    Belangrike kenmerke

    1. Elektriese en optiese werkverrigting
    · Elektro-optiese koëffisiënt: r33 bereik 30 pm/V (X-snit), 1.5× hoër as LiNbO3, wat ultra-wyeband elektro-optiese modulasie (>40 GHz bandwydte) moontlik maak.
    · Breë Spektrale Respons: Transmissiebereik 0.4–5.0 μm (8 mm dikte), met ultraviolet-absorpsierand so laag as 280 nm, ideaal vir UV-lasers en kwantumpunttoestelle.
    · Lae Piro-elektriese Koëffisiënt: dP/dT = 3.5×10⁻⁴ C/(m²·K), wat stabiliteit in hoëtemperatuur-infrarooi sensors verseker.

    2. Termiese en Meganiese Eienskappe
    · Hoë termiese geleidingsvermoë: 4.6 W/m·K (X-snit), viervoudig dié van kwarts, wat -200–500°C termiese siklusse kan handhaaf.
    · Lae Termiese Uitbreidingskoëffisiënt: CTE = 4.1×10⁻⁶/K (25–1000°C), versoenbaar met silikonverpakking om termiese spanning te verminder.
    3. Defekbeheer en Verwerkingspresisie
    · Mikropypdigtheid: <0.1 cm⁻² (8-duim-wafers), ontwrigtingsdigtheid <500 cm⁻² (geverifieer via KOH-etsing).
    · Oppervlakkwaliteit: CMP-gepoleer tot Ra <0.5 nm, wat voldoen aan EUV-litografiegraad-vlakheidsvereistes.

    Sleuteltoepassings

    Domein

    Toepassingscenario's

    Tegniese voordele

    Optiese Kommunikasie

    100G/400G DWDM-lasers, silikonfotonika-hibriede modules

    LiTaO3-wafer se breë spektrale transmissie en lae golfgeleierverlies (α <0.1 dB/cm) maak C-band-uitbreiding moontlik.

    5G/6G Kommunikasie

    SAW-filters (1.8–3.5 GHz), BAW-SMR-filters

    42°Y-gesnyde wafers bereik Kt² >15%, wat lae invoegverlies (<1.5 dB) en hoë afrol (>30 dB) lewer.

    Kwantumtegnologieë

    Enkelfotondetektors, parametriese afwaartse omskakelingsbronne

    Hoë nie-lineêre koëffisiënt (χ(2)=40 pm/V) en lae donkertellingstempo (<100 tellings/s) verbeter kwantumgetrouheid.

    Industriële sensoriese waarneming

    Hoëtemperatuurdruksensors, stroomtransformators

    LiTaO3-wafer se piezo-elektriese reaksie (g33 >20 mV/m) en hoëtemperatuurtoleransie (>400°C) is geskik vir uiterste omgewings.

     

    XKH Dienste

    1. Pasgemaakte Wafervervaardiging

    · Grootte en snywerk: 2–8-duim-wafers met X/Y/Z-snit, 42°Y-snit en pasgemaakte hoeksnitte (±0.01° toleransie).

    · Dopingbeheer: Fe, Mg doping via die Czochralski-metode (konsentrasiebereik 10¹⁶–10¹⁹ cm⁻³) om elektro-optiese koëffisiënte en termiese stabiliteit te optimaliseer.

    2. Gevorderde Prosestegnologieë
    ​​
    · Periodieke Poling (PPLT): Smart-Cut-tegnologie vir LTOI-wafers, wat ±10 nm domeinperiode-presisie en kwasi-fase-gepaarde (QPM) frekwensie-omskakeling bereik.

    · Heterogene Integrasie: Si-gebaseerde LiTaO3-saamgestelde wafers (POI) met diktebeheer (300–600 nm) en termiese geleidingsvermoë tot 8.78 W/m·K vir hoëfrekwensie SAW-filters.

    3. Gehaltebestuurstelsels
    ​​
    · End-tot-end toetsing: Raman-spektroskopie (politipe-verifikasie), XRD (kristalliniteit), AFM (oppervlakmorfologie), en optiese eenvormigheidstoetsing (Δn <5×10⁻⁵).

    4. Globale Voorsieningskettingondersteuning
    ​​
    · Produksiekapasiteit: Maandelikse produksie >5 000 wafers (8-duim: 70%), met noodaflewering binne 48 uur.

    · Logistieke Netwerk: Dekking in Europa, Noord-Amerika en Asië-Stille Oseaan via lug-/seevrag met temperatuurbeheerde verpakking.

    Laser Holografiese Anti-Vervalsingstoerusting 2
    Laser Holografiese Anti-Vervalsingstoerusting 3
    Laser Holografiese Anti-Vervalsingstoerusting 5

  • Vorige:
  • Volgende:

  • Skryf jou boodskap hier en stuur dit vir ons