200 mm 8 duim GaN op saffier Epi-laag wafer substraat

Kort beskrywing:

Die vervaardigingsproses behels die epitaksiale groei van 'n GaN-laag op 'n Sapphire-substraat deur gebruik te maak van gevorderde tegnieke soos metaal-organiese chemiese dampneerslag (MOCVD) of molekulêre straalepitaxy (MBE).Die afsetting word onder gekontroleerde toestande uitgevoer om hoë kristalkwaliteit en film eenvormigheid te verseker.


Produkbesonderhede

Produk Tags

Produk bekendstelling

Die 8-duim GaN-op-Sapphire-substraat is 'n hoë-gehalte halfgeleiermateriaal wat saamgestel is uit 'n Gallium Nitride (GaN) laag wat gekweek is as 'n Sapphire substraat.Hierdie materiaal bied uitstekende elektroniese vervoer-eienskappe en is ideaal vir die vervaardiging van hoëkrag- en hoëfrekwensie-halfgeleiertoestelle.

Vervaardigingsmetode

Die vervaardigingsproses behels die epitaksiale groei van 'n GaN-laag op 'n Sapphire-substraat deur gebruik te maak van gevorderde tegnieke soos metaal-organiese chemiese dampneerslag (MOCVD) of molekulêre straalepitaxy (MBE).Die afsetting word onder gekontroleerde toestande uitgevoer om hoë kristalkwaliteit en film eenvormigheid te verseker.

Aansoeke

Die 8-duim GaN-op-Sapphire-substraat vind uitgebreide toepassings in verskeie velde, insluitend mikrogolfkommunikasie, radarstelsels, draadlose tegnologie en opto-elektronika.Sommige van die algemene toepassings sluit in:

1. RF drywingsversterkers

2. LED-beligtingsbedryf

3. Draadlose netwerk kommunikasie toestelle

4. Elektroniese toestelle vir hoë-temperatuur omgewings

5. Opto-elektroniese toestelle

produk spesifikasies

-Dimensie: Die substraatgrootte is 8 duim (200 mm) in deursnee.

- Oppervlakkwaliteit: Die oppervlak is tot 'n hoë mate van gladheid gepoleer en vertoon uitstekende spieëlagtige kwaliteit.

- Dikte: Die GaN-laagdikte kan aangepas word op grond van spesifieke vereistes.

- Verpakking: Die substraat word versigtig verpak in anti-statiese materiale om skade tydens vervoer te voorkom.

- Oriëntasie plat: Die substraat het 'n spesifieke oriëntasie plat om te help met wafelbelyning en hantering tydens toestelvervaardigingsprosesse.

- Ander parameters: Die besonderhede van die dikte, weerstand en doopmiddelkonsentrasie kan aangepas word volgens die vereistes van die kliënt.

Met sy voortreflike materiaaleienskappe en veelsydige toepassings, is die 8-duim GaN-op-Sapphire-substraat 'n betroubare keuse vir die ontwikkeling van hoëprestasie-halfgeleiertoestelle in verskeie industrieë.

Behalwe GaN-On-Sapphire, kan ons ook op die gebied van kragtoesteltoepassings aanbied, die produkfamilie sluit 8-duim AlGaN/GaN-on-Si epitaksiale wafers en 8-duim P-cap AlGaN/GaN-on-Si epitaksiaal in wafers.Terselfdertyd het ons die toepassing van sy eie gevorderde 8-duim GaN-epitaksie-tegnologie in die mikrogolfveld vernuwe, en 'n 8-duim AlGaN/ GAN-op-HR Si-epitaksiewafer ontwikkel wat hoë werkverrigting met groot grootte, lae koste kombineer en versoenbaar met standaard 8-duim toestelverwerking.Benewens silikon-gebaseerde galliumnitride, het ons ook 'n produkreeks van AlGaN/GaN-on-SiC epitaksiale wafers om te voldoen aan kliënte se behoeftes vir silikon-gebaseerde galliumnitride epitaksiale materiale.

Gedetailleerde diagram

WechatIM450 (1)
WechatIM450 (2)

  • Vorige:
  • Volgende:

  • Skryf jou boodskap hier en stuur dit vir ons